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四-碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定,可以长时间停留在-层中,是一种非常-的温室气体。四-碳的热稳定性-。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时,四-碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四-碳的密度比较高,可以填满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。四-碳成品应存放在阴凉,干燥,通风的库房内,严禁曝晒,远离热源。






四-碳亦称全-碳、四氟甲1烷、全-碳,为非腐蚀性气体,所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜,铝等金属材料都可以使用。产品经除尘,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,得到高纯cf4。由碳与氟反应,或一氧1化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟-甲1烷与反应,或四氯1化碳与-银反应,或四氯1化碳与氟1-反应,都能生成四氟1化碳。






是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,高纯气高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。温室气体,其造成温室效应的作用是-的数千倍。氟代烃的低层-中比较稳定,而在上层-中可被能量的紫外线分解。在全球范围内,高纯度四-碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区,受电子产业发展程度不同影响,对于高纯度四-碳的需求也不同,亚洲地区由于电子产业发展落后,近几年电子电器行业处于快速发展状态,因此使得该地区的高纯度四-碳消费量持续-。


温室气体,其造成温室效应的作用是-的数千倍。氟代烃的低层-中比较稳定,而在上层-中可被能量的紫外线分解。四-碳的溶氧性-,因此被科学家用于超-潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的-内,小白鼠仍可安全脱险。由于化学稳定性极强,cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。



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